حلقة نقاش عن تأثير تراكيز HF

عقد قسم الكيمياء في كلية التربية للبنات بجامعة الكوفة خلقة نقاش عن (تأثير تراكيز HF المختلفة على تكوين السيليكون المسامي) للمدرس المساعد (نور محمد كاظم).

هدفت الحلقة الى دراسة خواص السيليكون المسامي المحضر باستخدام النقش الكهروكيميائي الضوئي والنقش الكهروكيميائي و تأثير حامض الهيدروفلوريك والايثانول على خواصه ودراسة المقارنة بين النوعين N، P له.
وخلصت الى ان تركيز الحامض عندما ينخفض تكون

طبقة السيليكون المسامية افضل نتيجة تأثير القشط و ان الخواص المورفولوجيه احداهما مرتبطة بالاخرى وان الزيادة والنقصان بسبب ارتباطها رياضيا وان عوامل التكوين الأخرى مثل الإضاءة وكثافة التيار لها تأثير على عملية القشط لطبقة Psi)) الناتجة حيث يوفر امتصاص الضوء ازواج ثقب الالكترونات اللازمة لبدء التفاعل الكيميائي بين الحامض والمنطقة المشعة.

واوصت الباحثة الى دراسة الخواص الكهربائية للمقاومة وحساب التيار الكهربائي للمناطق المظلمة ودراسة تأثير زمن القشط على الخواص الانشائية وإيجاد الخواص الكهربائية بنفس التأثير مع دراسة تأثير الكثافة الضوئية على الخواص التركيبية بتركيزات منخفضة من السيليكون من النوع N.